La nanopoudre de pentoxyde de tantale  (Ta2O5 HW-T502) est un matériau doté de propriétés spéciales et d'applications potentielles, possédant les caractéristiques suivantes :

Petite taille de particule : la taille des particules de la nanopoudre Ta2O5 est généralement de l'ordre du nanomètre (des dizaines à des centaines de nanomètres), avec une grande surface spécifique et un rapport surface spécifique/volume élevé, ce qui favorise ses performances uniques dans diverses applications.

Activité de surface élevée : la nano poudre Ta2O5 a une plus grande surface, offrant des surfaces plus actives qui facilitent l'interaction avec d'autres substances, élargissant ainsi ses domaines d'application.

Stabilité à haute température : le Ta2O5 présente une excellente stabilité à haute température et une excellente résistance à la corrosion, ce qui permet de maintenir de bonnes performances et une stabilité structurelle dans des environnements à haute température. Cela rend la nanopoudre Ta2O5 largement utilisée dans les processus et les appareils à haute température.

Performances électriques : Le Ta2O5 a une constante diélectrique élevée et une faible perte diélectrique, ce qui lui confère un bon potentiel d'application dans les appareils électriques.

Performance optique : la nano poudre Ta2O5 a un indice de réfraction et une transparence élevés dans les régions de lumière visible et ultraviolette, ainsi que d'excellentes caractéristiques d'absorption optique et de fluorescence, elle peut donc être utilisée dans les revêtements optiques, les dispositifs optiques, les capteurs optiques et d'autres applications.

Dans le même temps, les cibles céramiques à base de nanopoudre Ta2O5 peuvent être utilisées dans le dépôt de films, le revêtement optique, la préparation de dispositifs optoélectroniques et dans d'autres domaines. En contrôlant le processus de préparation et de traitement de la nanopoudre, des matériaux céramiques d'une grande pureté, uniformité et contrôlabilité peuvent être obtenus. Voici quelques applications de la nanopoudre Ta2O5 comme cibles céramiques :

Technologie des semi-conducteurs : Le Ta2O5 est largement utilisé dans les procédés de dépôt de couches minces tels que le dépôt physique en phase vapeur (PVD) et le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) dans la technologie des semi-conducteurs. En appliquant des faisceaux de particules à haute énergie ou des gaz de réaction à haute température au matériau cible, de l'oxyde de tantale peut être déposé sur le substrat pour former des films minces, qui présentent de bonnes propriétés diélectriques et des fonctions de couche barrière dans les dispositifs semi-conducteurs.

Revêtement optique : En raison de ses excellentes caractéristiques d'indice de réfraction et de transmission, l'oxyde de tantale peut être utilisé dans le domaine des revêtements optiques. Les films minces de Ta2O5 peuvent être utilisés pour préparer des dispositifs optiques tels que des miroirs, des films conducteurs transparents et des filtres optiques.

Cellules solaires : Le Ta2O5 peut être utilisé pour préparer des couches conductrices transparentes dans les cellules solaires. En déposant des films minces d'oxyde de tantale structurés au laser sur des couches conductrices transparentes, l'efficacité d'absorption de la lumière et de transfert d'électrons des cellules solaires peut être améliorée.

Revêtement antireflet : un film mince Ta2O5 peut être utilisé pour préparer des revêtements antireflet afin de réduire la perte de réflexion de la lumière sur la surface des composants optiques . Ces revêtements sont largement utilisés dans des domaines tels que les instruments optiques, les dispositifs optiques et les écrans d'affichage.

Hongwu Nano fournit de la poudre Ta2O5 à 100-150 nm et la taille des particules peut être ajustée. Bienvenue à nous envoyer une demande si vous êtes intéressé par notre poudre de nano Ta2O5.